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德国Sentech离子刻蚀与沉积机 200 RIE
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刻蚀光栅
刻蚀光栅一、标准的刻蚀光栅规格:刻线/mm闪耀波长nm闪耀角度色散nm/mr12.7x12.7x 625x25x 625x25x 9.530x30x 9.550x50x 9.512.5x25x
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德Sentech经济型反应离子刻蚀机Etchlab200
200可升级为更大的真空泵组,预真空室和更多的气路。 SENTECH控制软件该等离子刻蚀机配备了用户友好的强大软件,具有模拟图形用户界面,参数窗口,工艺编辑窗口,数据记录和用户管理。 Etchlab
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等离子刻蚀ICP
Minilock-Phantom III具有预真空室的反应离子刻蚀机可适用于单个基片或带承片盘的基片(3”- 300mm尺寸),为实验室和试制线生产环境提供最先进的刻蚀能力。它也具有多尺寸
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NX-B100/B200多功能整片基板纳米压印系统
系统参数:热塑压印模块(NX-B100/B200) 温度范围0~250℃加热速度>200℃/分钟制冷速度>60℃/分钟压力范围0 ~ 3.45 MPa(500 psi)紫外固化模块
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NX-200S 便携式土壤重金属检测仪
检出限0.28mg/kg(Cd)检测元素26种 NX-200S可对土壤、水系沉积物等样品类型中镉(Cd)、汞(Hg)、铅(Pb)、砷(As)、铬(Cr)、镍(Ni)、铜(Cu)、锌(Zn)等重
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Park NX12原子力显微镜
Park NX12可用于任何一个项目NX系列的众多扫描模式和模块化设计使它可轻松地适应任何一个扫描探针显微镜的需求。- 标准成像真正的非接触模式AFM接触模式AFM侧向力显微镜(LFM)相位
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Park Systems帕克电化学原子力显微镜NX12
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光刻胶
表面。当紫外光或电子束的照射时,光刻胶材料本身的特性会发生改变,经过显影液显影后,曝光的负性光刻胶或未曝光的正性光刻胶将会留在衬底表面,这样就将设计的微纳结构转移到了光刻胶上,而后续的刻蚀、沉积等工艺
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Park NX20 帕克原子力显微镜
Park NX20技术参数扫描器XY扫描器闭环控制XY平板扫描器扫描范围:100µm x 100µm50µm x 50µm25µm x 25µm20位位置控制和24位位置传感器Z扫描器导向强力Z
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